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分光干涉式晶圓膜厚儀 SF-3

分光干涉式晶圓膜厚儀 SF-3

即時(shí)檢測(cè) WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強(qiáng)酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞性光學(xué)式膜厚檢測(cè) 采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高度檢測(cè)再現(xiàn)性 可進(jìn)行高速...

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產(chǎn)品介紹
  • 產(chǎn)品特色
  • 產(chǎn)品式樣

動(dòng)畫(huà)




即時(shí)檢測(cè)

WAFER基板于研磨制程中的膜厚

玻璃基板(強(qiáng)酸環(huán)境中)于減薄制程中的厚度變化
 

產(chǎn)品特色

●非接觸式、非破壞性光學(xué)式膜厚檢測(cè)
●采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高度檢測(cè)再現(xiàn)性
●可進(jìn)行高速的即時(shí)研磨檢測(cè)
●可穿越保護(hù)膜、觀(guān)景窗等中間層的檢測(cè)
●可對(duì)應(yīng)長(zhǎng)工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線(xiàn)或者設(shè)備中
●體積小、省空間、設(shè)備安裝簡(jiǎn)易
●可對(duì)應(yīng)線(xiàn)上檢測(cè)的外部信號(hào)觸發(fā)需求
●采用最適合膜厚檢測(cè)的獨(dú)自解析演算法。(已取得專(zhuān)利)
●可自動(dòng)進(jìn)行膜厚分布制圖(選配項(xiàng)目)


動(dòng)畫(huà)




規(guī)格式樣

               

                    SF-3

膜厚測(cè)量范圍

                    0.1 μm ~ 1600 μm※1

膜厚精度

                    ±0.1% 以下

重復(fù)精度

                    0.001% 以下

測(cè)量時(shí)間

                    10msec 以下

測(cè)量光源

                    半導(dǎo)體光源

測(cè)量口徑

                    Φ27μm※2

WD

                    3 mm ~ 200 mm

測(cè)量時(shí)間

                    10msec 以下

※1 隨光譜儀種類(lèi)不同,厚度測(cè)量范圍不同
※2 最小Φ6μm




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